高性能柔性透明导电膜制备技术

成果简述：本项目开发了高性能柔性透明导电薄膜（NFTCMTM）制备技术。核心产品光电性能优异（低电阻高透过率：550nm透过率90%时方阻可低至10Ω/sq）、雾度低（<0.1nm）、大面积均匀性好（均匀性≤±5%）、环境稳定性优异（通过数十小时高加速老化测试）、耐弯折、与传统下游制程兼容性好。并建成600 mm宽幅磁控溅射中试线一条，技术方案已完成中试验证，性能指标达到国际一流水平。该柔性透明导电薄膜在大面积触控、电致变色、透明电磁屏蔽等领域不可替代，在传统领域有望部分替代常规柔性ITO导电膜。 技术优势： （1）超薄膜层的高质量生长技术 （2）多层膜之间光学匹配和界面调控技术 （3）可靠性和稳定性控制技术 （4）大面积卷对卷连续稳定生产工艺控制技术 （5）原材料制备与物性调控关键技术